湖北兴福电子新蚀刻液专利,为含钼金属叠层蚀刻带来新突破

本文围绕湖北兴福电子材料股份有限公司展开,介绍了其在2024年11月申请的一项“一种稳定蚀刻含钼金属叠层的蚀刻液”专利情况,包括专利摘要中蚀刻液的成分及优势,还提及了该公司的基本信息和相关业务数据。

据金融界2025年3月17日消息,从国家知识产权局披露的信息中可知,湖北兴福电子材料股份有限公司提出了一项引人注目的专利申请。该专利名为“一种稳定蚀刻含钼金属叠层的蚀刻液”,其公开号为CN 119615166 A,申请日期定格在2024年11月。

从专利摘要来看,此发明所提供的稳定蚀刻含钼金属叠层的蚀刻液,有着独特的成分构成。它包含60 – 70%的磷酸、1 – 5%的硝酸、10 – 20%的醋酸,添加剂的含量在1.5% – 8%,剩余部分则是超纯水。当这种蚀刻液用于对MoOx/Mo/Al/Mo叠层进行蚀刻时,会呈现出显著的效果。顶层钼和底层钼相对于铝层均会有少量缩进,而且关键尺寸偏差(CD Bias)、倾斜角(Taper)、顶层钼相对铝的尺寸偏差(Mo Tip)以及底层钼相对铝的尺寸偏差(Mo Tail)的方差都有明显降低。这一系列数据变化表明,经过该蚀刻液蚀刻后的形貌尺寸更加均一,对于产品蚀刻的良率提升起到了积极的促进作用。

通过天眼查的资料,我们能进一步了解湖北兴福电子材料股份有限公司。该公司于2008年成立,坐落在宜昌市,主要从事化学原料和化学制品制造业。其企业注册资本达到26000万人民币。借助天眼查的大数据分析,我们发现湖北兴福电子材料股份有限公司在业务拓展方面十分活跃。它一共对外投资了6家企业,参与招投标项目多达160次。在财产线索方面,拥有4条商标信息和360条专利信息。此外,企业还获得了275个行政许可。

本文介绍了湖北兴福电子材料股份有限公司申请“一种稳定蚀刻含钼金属叠层的蚀刻液”专利的相关情况,包括专利申请时间、蚀刻液成分及优势,还展示了该公司的基本信息和业务数据,体现了公司在技术创新和业务拓展方面的积极表现。

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